如何将试验室验证成功的“铜箔外表粗化技能”从小型试验槽面向出产线大槽,让铜箔标明发生均匀且附着力强的“粗糙纹路”?
近来,深耕铜箔范畴十余年的江西理工大学铜箔研讨团队课题组的樊小伟、宋宁教师带着研讨生黄剑、罗意昕、黄晏乐,在盛夏的车间里,正在完结这一项要害作用转化试验。
这层“纹路”是铜箔与电路板基材结合的“咬合齿”,直接决议电子科技类产品的抗剥离功能。
车间内,黄晏乐拎着装有增加剂的试剂桶,向电解槽中增加增加剂。“试验室小槽只要1升,现在大槽是1.36立方米,体积扩大一千多倍,增加剂的参加并不是简略的乘法,若是盲目增加有几率会使发生沉积,直接损坏粗化作用。”罗意昕一边核算所需增加的增加剂,一边盯着电解液判别下一步应加剂量,“小槽里增加剂能均匀分散,大槽却或许会呈现死角。”就像一杯水加一勺糖能搅匀,一缸水加一袋糖,有必要找到更适宜的增加方法才能使电镀液愈加均匀。
增加剂参加电解液中部分浓度过高就会发生沉积。针对这一问题,团队重复验证,终究确认先由少批量增加剂溶入少数电解液中,再倒入电解槽,总算探索出适配大槽的“梯度加料法”。铜箔是电子信息产业的“血管”,厚度仅几微米至几十微米,却要接受电路板的高频信号传输,对外表平整度和力学功能要求极高。试验室里,小槽试验能精准操控温度、增加剂浓度,但到了出产线,这一些要素却难以把控,稍有不小心就会影响处理后铜箔的质量。“第一次试出产时,电解出的铜箔外表描摹与试验室中彻底不一致。”樊小伟说,“试验室仅仅抱负状况,是骡子是马还得拉到出产线上遛一遛。”
为了找到原因,宋宁与黄剑重复比对小槽与大槽的数据,以及铜箔外表描摹,终究决议经过改动电流密度的巨细,来参照试验室做出的铜箔外表描摹做调整,在使铜箔不出粉的基础上尽可能外观愈加均匀。
“带领咱们攻关科研的唐云志教师总说,出产线不是试验室的小打小闹,咱们在试验室做出的作用,研讨出的技能要经得起本钱、功率、环保的多重检测。”罗意昕说。
终究,在江西省江铜铜箔科技股份有限公司的全力支持下,经过调控电流密度的巨细以及运用团队研制的新式复合增加剂系统,能让粗化处理后的铜箔外表粗糙度小于2µm,一起其抗剥离强度大于1N/mm,这一技能可在出产线上得到使用。